「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」得獎名單
「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」由文化部指導,國立臺灣美術館主辦,歷經41年間不懈耕耘,宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展,是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一,迄今已是第21屆。
以下公告本屆得獎名單:
序號
獎項
報名編號
作者姓名
作品名稱
國籍
1
金牌獎
21-0376
安河内裕也
Hiroya YASUKOCHI
After that'22 – prisoner 9
日本
2
銀牌獎
21-0756
Patipon SUPANPONG
thig and traces in memory 11
泰國
3
銅牌獎
21-0065
武藤正悟
Shogo MUTO
結界
日本
4
評審團特別獎
21-0037
kamruzzaman KAMRUZZAMAN
survivour
孟加拉
5
評審團特別獎
21-0255
Krzysztof TOMALSKI
Inertia State
波蘭
6
優選獎
21-0244
Tomasz WINIARSKI
Perpetuum mobile: CXII
波蘭
7
優選獎
21-0266
Wieslaw HALADAJ
Invisible path
波蘭
8
優選獎
21-0299
玉分昭光
Akimitsu TAMAWAKE
Fire and Flowers
日本
9
優選獎
21-0747
Fernando CARBALLA VILLANUEVA
Metaverse
西班牙
10
優選獎
21-0804
陳憶誠
Yi-Cheng CHEN
連續勞動 1-3②
Continuous work 1-3 ②
台灣
11
佳作
21-0109
田島直樹
Naoki TAJIMA
飛行計画Ⅲ
日本
12
佳作
21-0283
Yael BROTMAN
Things We Carry 1
加拿大
13
佳作
21-0432
Hernandez Castillo VÍCTOR MANUEL
ARANDO HUELLAS
墨西哥
14
佳作
21-0542
Jolanta RUDZKA HABISIAK
TOWARDS INFINITY
波蘭
15
佳作
21-0563
椿一朗
Ichirow TSUBAKI
Time Drops
日本
本展所有得獎及入選作品,將於2024/07/27-10/13於國立臺灣美術館展出。