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「中華民國第二十一屆國際版畫雙年展」由文化部指導，國立臺灣美術館主辦，歷經41年間不懈耕耘，宗旨為提倡版畫藝術創作、促進國際文化交流、共同豐富版畫藝術未來的多元發展，是現存歷史最悠久的國際版畫雙年展之一，迄今已是第21屆。 以下公告本屆得獎名單： 序號 獎項 報名編號 作者姓名 作品名稱 國籍 1 金牌獎 21-0376 安河内裕也 Hiroya YASUKOCHI After that'22 – prisoner 9 日本 2 銀牌獎 21-0756 Patipon SUPANPONG thig and traces in memory 11 泰國 3 銅牌獎 21-0065 武藤正悟 Shogo MUTO 結界 日本 4 評審團特別獎 21-0037 kamruzzaman KAMRUZZAMAN survivour 孟加拉 5 評審團特別獎 21-0255 Krzysztof TOMALSKI Inertia State 波蘭 6 優選獎 21-0244 Tomasz WINIARSKI Perpetuum mobile: CXII 波蘭 7 優選獎 21-0266 Wieslaw HALADAJ Invisible path 波蘭 8 優選獎 21-0299 玉分昭光 Akimitsu TAMAWAKE Fire and Flowers 日本 9 優選獎 21-0747 Fernando CARBALLA VILLANUEVA Metaverse 西班牙 10 優選獎 21-0804 陳憶誠 Yi-Cheng CHEN 連續勞動 1-3② Continuous work 1-3 ② 台灣 11 佳作 21-0109 田島直樹 Naoki TAJIMA 飛行計画Ⅲ 日本 12 佳作 21-0283 Yael BROTMAN Things We Carry 1 加拿大 13 佳作 21-0432 Hernandez Castillo VÍCTOR MANUEL ARANDO HUELLAS 墨西哥 14 佳作 21-0542 Jolanta RUDZKA HABISIAK TOWARDS INFINITY 波蘭 15 佳作 21-0563 椿一朗 Ichirow TSUBAKI Time Drops 日本 本展所有得獎及入選作品，將於2024/07/27-10/13於國立臺灣美術館展出。

#徵選計畫｜國際版畫雙年展 「中華民國第二十屆國際版畫雙年展作品徵件」 由文化部指導，國立臺灣美術館主辦的「中華民國國際版畫雙年展」，自1983年開辦迄今約40年，以倡導版畫藝術創作，促進國際文化交流為宗旨。本屆延續往年採取線上報名方式，參賽者請於報名時間內至國際版畫雙年展網站進行線上報名。參賽作品以紙創作為限，須為2019年以後之創作，且未曾在此展覽展出之原作，每位參賽者限送作品1件，各國人士皆可報名參與 截止日期｜2022年2月28日 報名方式｜ 採線上方式報名，請於報名時間內至國際版畫雙年展網站 https://printbiennial.ntmofa.gov.tw/（或 http://210.61.47.243）進行線上報名。 參賽規定｜ 以紙創作為限，須為2019年（含）以後之創作及未曾在本展覽展出之原作。版畫為具複數性及間接性特質，經轉印或製版印製完成之原作（含單刷版畫及數位版畫）。 報名必備資料｜ ①寫個人資料（包括簡歷、得獎及展覽紀錄）及作品資料（包括創作自述）。 ②初審審查使用之作品全貌圖片。 ③作品上簽名、版次、創作年份的特寫照片。 🔗完整及詳細相關簡章及報名表請見👇 https://printbiennial.ntmofa.gov.tw/print20/index.aspx?a=20220211 📞若有任何問題請洽詢主辦單位承辦人員，電話04-23723552分機702、718 email: print20@art.ntmofa.gov.tw