2021「遇見最美天壇」天壇主題插畫設計大賽

by 網站小編

　總獎金： 225000(CNY)

最高獎金： 5000(CNY)

報名時間： 2021-07-28 ~ 2021-09-01

主辦單位： 北京市天壇公園管理處、北京國際設計周

主辦單位電話： +86-13581722632

主辦單位Email：503027113@qq.com

01項目背景

天似穹廬，籠蓋四野，古人空有登天之念，卻無登天之梯，天壇就承載著“天人相通”的使命。天壇建於明永樂十八年(1420年)，1998年被聯合國教科文組織確認為“世界文化遺產”，是世界建築藝術的珍品。作為溝通天人之際的登天之壇，它具有一種獨特的意境，是明清兩代皇帝“祭天”“祈谷”的場所，位於正陽門外東側，壇域北呈圓形，南為方形，寓意“天圓地方”。

2021「遇見最美天壇」天壇主題插畫設計大賽

風雲一夕過，光陰六百年。北京天壇的歷史演變也是中國時代變革的縮影之一，2021年正是天壇邁向下一個六百年的第一步，在這個嶄新的時間段，拂去歷史漫散的塵埃，再現昔日天壇歷史。由北京市天壇公園管理處與北京國際設計周組委會辦公室聯合舉辦的天壇主題插畫設計大賽，從藝術創意角度出發，圍繞天壇公園建築文化、禮樂文化、植物文化等元素，多角度挖掘天壇文化內核，讓這座凝固了古人信仰的文化遺產建築，為我們逐一展現它所經歷過的滄海桑田。

02徵集主題

“遇見最美天壇”2021天壇主題插畫設計大賽

03徵集內容

圍繞天壇歷史文化進行插畫創作，創作方向參考：

1. 建築主題：以天壇公園內祈年殿、皇乾殿、圜丘、皇穹宇、回音壁、無樑殿、長廊、神樂署等建築的紋飾紋樣、歷史典故、人物故事等為主元素進行設計創作。

2. 禮樂主題：以國家級非物質文化遺產“天壇神樂署中和韶樂”中所使用的樂器、舞具、道具等為主元素進行設計創作。

3. 植物主題：以天壇公園古樹、月季、菊花及二月蘭等植物為主元素進行設計創作。

04賽事安排

1. 作品徵集：2021年7月28日-9月1日 12:00

發佈比賽公告，聯動各合作方宣推渠道，加強宣傳力度，邀請設計師參與創作。

2. 入圍評選：2021年9月2日-9月22日

通過線上初選、複選方式，遴選設計師入圍作品。

3. 獲獎公示及頒獎典禮：2021年9月23日-10月7日

根據北京市天壇公園管理處相關領導及各專家評委綜合意見，確定大賽最終獎項，並於北京國際設計周活動舉辦期間進行現場頒獎，頒獎現場可進行優秀作品展。

05評審規則

北京市天壇公園管理處相關領導、著名設計師、業界代表共同擔任評審，在確保公正、公平的審查程序基礎上，對應徵作品的切題性、藝術性、設計完整性、創新性和應用性等幾個方面進行綜合評定。

06獎項設置（獎金均為稅前）

總獎金22.5萬元，天壇主題插畫大賽金獎總名額45名，優秀獎30名。

1. 金獎 | 45名

獎金5000元/人+榮譽證書

2. 天壇插畫大賽優秀獎 | 30名

由主辦方為獲獎設計師頒發榮譽證書

額外榮譽

(1) 所有獲獎設計師優先成為北京國際設計周組委會辦公室簽約設計師。

(2) 所有獲獎作品優先被推薦入選《文化北京設計年鑑》，首本已正式出版。

(3) 所有獲獎作品，將優先入選天壇官方圖庫，並由天壇推薦進行產品轉化，如入圍作品設計落地，將單獨與設計師簽署相關協議。

(4) 大賽獲獎設計師將優先受邀參加2021年北京國際設計周開幕式”設計師藍毯”活動，接受媒體和公眾關注。

07作品提交

線上提交，作品可直接上傳至“遇見最美天壇”2021天壇主題插畫設計大賽組委會網站：

http://dasai.bjdw.org/ 和 shijue.me

08設計作品及要求

1. 作品設計風格及表現形式不限，使用軟件不限；以電子稿形式提交，寬>=500px，高>=600px，請上傳RGB模式的jpg、jpeg、png格式作品，文件大小不超過5MB，建議參賽者能簡要闡述設計說明，設計說明可直接在畫面上體現，也可上傳過程中插入文字進行說明。

2.作品提交數量要求：數量不限，可用單圖或系列圖的展現形式，鼓勵系列作品。

3. 所有參賽作品需保證原創性，獨具創意，且具有感染力和良好的視覺效果。

4. 作品須符合國家相關法律法規的要求，不得出現性別歧視的影射；任何對暴力、仇恨、種族主義的宣傳；政治和宗教聲明。

5. 作者需保留CMYK模式、畫幅尺寸不低於1200萬像素（例如 3000px X 4000px），300 dpi的可用於媒體傳播、設計印刷生產的位圖源文件或矢量文件 (最終需要提供AI、PSD等格式)，以便選中後提供給主辦方用於線下的活動宣傳。

6. 所有作品採用在線提交，為避免遺漏作品，請勿以郵箱形式投稿，如團隊參賽，請聯繫電話13581722632。

09版權聲明

1. 獲得2021天壇主題插畫設計大賽金獎的設計師均需與主辦方簽署《著作權轉讓協議》，所有獲獎設計作品知識產權歸主辦方所有，設計師享有署名權，主辦方享有對相應獲獎設計方案進行再設計、生產、銷售、展示、出版等全部權益。

2. 優秀獎及未獲獎的作品著作權仍歸原作者本人所有，主辦方享有對作品的展覽展示權，如需對該作品進行開發、生產、銷售等商業用途，主辦方需單獨與作者簽署相關協議，並向作者支付相應使用及設計費用。

3. 所有參賽者必須是參賽作品的合法擁有者，具有自主版權，合法使用圖片資料等素材，並承擔相應的法律責任。

4. 作品中如使用他人肖像或者設計圖片元素，必須註明來源並取得書面認可；大賽及大賽組委會只負責考察作品本身的質量，作品內容所涉及的版權問題由參賽者本人負責；凡涉嫌抄襲或涉及知識產權問題的作品，將自動失去參賽資格。若獲獎作品違規，則追回已頒發獎金等費用並公告。如造成第三者之權益損失，參賽者需自行負擔相關法律責任。

5. 大賽主辦方對本活動保留最終解釋權。